胶体磨,锥体膜,中式型胶体磨

 中试型胶体磨是由电动机通过皮带传动带动转齿(或称为转子)与相配的定齿(或称为定子)作相对的高速旋转,被加工物料通过本身的重量或外部压力(可由泵产生)加压产生 向下的螺旋冲击力,透过中试型胶体磨定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果。

  • 商品介绍
  • 规格参数
  • 胶体磨,锥体膜,中式型胶体磨,高速胶体磨


          中试型胶体磨是由电动机通过皮带传动带动转齿(或称为转子)与相配的定齿(或称为定子)作相对的高速旋转,被加工物料通过本身的重量或外部压力(可由泵产生)加压产生 向下的螺旋冲击力,透过中试型胶体磨定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果。

         CK 2000是一种高性能的在线胶体磨,能够对坚硬的和颗粒状的原料进行湿磨和粗细磨。CK 2000特别适合于生产胶体溶液或极细的乳液和悬浮液。卓越的分散性能允许翼悾胶体磨CK 2000用于连续过程中,在一次通过中为研磨颗粒提供狭窄分布范围。对于难度大的研磨任务,胶体磨可以通过管连接安装到带有工作容器的再循环回路中。 

    中试型胶体磨的细化作用一般来说要弱于均质机,但它对物料的适应能力较强(如高粘度、大颗粒),所以在很多场合下,它用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。在固态物质较多时也常常使用胶体磨进行细化。 
          CK2000/4中试型胶体磨是专门为胶体溶液生产所设计,特别是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。 CK2000/4中试型胶体磨的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。 CK2000/4中试型胶体磨的定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

         公司另外一项独特的创新,就是锥体磨CKO2000系列,它的设计使其功能在原有的CK2000的基础上又进了一步。由于这项创新,CK2000,从而可以得到精确的研磨参数。 研磨头的表面涂上了一层极其坚硬的硬质材料,从而使其表面具有非常粗糙的纹理。这种硬质材料是由碳化物、陶瓷等高质量物质构成,并且具有不同的粒径。研磨头处形成了一个具有强烈剪切的区域,可以输送高粘度和低粘度物料,但它的分散效果和最后的粒径大小都比胶体磨CM的效果更加理想。

     

    胶体磨

    流量*

    输出

    线速度

    功率

    入口/出口连接

    类型

    l/h

    rpm

    m/s

    kW


    CK2000/4

    700

    9,000

    23

    2.2

    DN25/DN15

    CK2000/5

    2,500

    6,000

    23

    7.5

    DN40/DN32

    CK 2000/10

    7,500

    4,200

    23

    15

    DN50/DN50

    CK2000/20

    20,000

    2,850

    23

    27

    DN80/DN65

    CK 2000/30

    40,000

    1,420

    23

    50

    DN150/DN125

    CK 2000/50

    80,000

    1,100

    23

    110

    DN200/DN150

    *流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到最大允许量的10%。

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